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Pyroprobe 5200HPR

Pyroprobe 5200HPR

CDS ha introducido el primer y único sistema de pirólisis de alta presión. Pensado para el estudio de nuevos materiales, o para análisis de biomasa. Con este sistema se pueden estudiar a pequeña escala la degradación de los materiales según las condiciones de presión y temperatura, sin necesidad de crear una planta piloto. A parte los estudios se pueden realizar con diferentes gases, como por ejemplo aire o oxígeno.

El equipo de Pirolisis de alta presión 5200HPR está basado en el sistema estándar 5200, pero incluye unos reguladores de presión traseros que permiten pirolizar muestras hasta 500psi y recolectar los compuestos en la trampa, posteriormente los compuestos se desorben desde la trampa hacia el GC en condiciones de operación normales. En la cámara de pirolización se puede utilizar cualquier gas reactante, incluyendo H2, O2, CH4 o CO.

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Descripción detallada

Detalles

Compatible con cualquier modelo de GC o GC/MSD.

Utiliza filamentos enrollados de platino que permiten un control variable de la temperatura. Esto permite realizar calentamientos rápidos o lentos. Las rampas de temperatura se pueden programar en grados por milisegundo, en grados por segundo y/o en grados por minuto.

El modelo 5200HPR se puede suministras con un reactor opcional. El reactor tienen un control independiente de la temperatura (Hasta 800ºC). Los volátiles obtenidos por pirólisis pasan por el reactor dónde se producen las reacciones, los compuestos obtenidos se atrapan en una trampa. Se puede utilizar cualquier gas reactante, incluyendo el Hidrógeno y el Oxígeno. También se puede configurar para que la muestra salga directamente del reactor al GC.

Especificaciones

Detalles

Temperatura de Pirólisis: Incrementos de 1°C hasta 1400°C

Rampas de calentamiento: 0.01°C/ms to 20.0°C/ms

                                            0.01°C/sec to 999.9°C/sec

                                            0.01°C/min to 999.9°C/min

Presión: 5 a 500 psi

8 Etapas por muestra: hasta ocho perfiles de temperaturas. Permite múltiples desorciones térmicas o múltiples etapas de pirólisis para cada muestra.

Temperatura Interfase, horno de válvulas : Incrementos de 1°C hasta 350°C.

Trampa: Incrementos de 1°C hasta 350°C.

8 Etapas por muestra: hasta ocho perfiles de temperaturas. Permite múltiples desorciones térmicas o múltiples etapas de pirólisis para cada muestra.

Trampa: permitirá al usuario realizar pirólisis en una atmósfera con gas reactante, como aire, atrapará los compuestos pirolizados y luego los desorberá al GC para su análisis. La trampa también se puede utilizar para estudios a baja temperatura o se puede utilizar como una cámara de desorción térmica.

Temperatura de la trampa: Ambiente a 350°C.

Rampas de calentamiento de la trampa: 600°C/min.

Camino de muestra: Todo el camino de muestra está recubierto de tratamiento SILTEK®.

Documentación
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